Nd：YAG和Nd：YVO4激光2倍頻成分

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的諧波廣泛用于材料加工和測量應(yīng)用。 此外，Nd：YAG激光器的二次諧波通常用作Ti：藍(lán)寶石激光器的泵浦源。 在這些頁面上，我們引入了532nm的光學(xué)器件：雙波長反射鏡，分離器，薄膜偏振器和非偏振分束器，還包括不同配置的緊湊型二極管泵浦激光器的腔體光學(xué)器件。 所有設(shè)計(jì)均按客戶要求計(jì)算。

圖1：泵浦波長（808nm）具有高透射率的雙波長腔鏡的反射光譜（a）

和雙波長轉(zhuǎn)向鏡（b）

圖2：來自地面波長的2倍頻的分離器的反射光譜：

（a）：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532 + 808nm）<3％

（b）：HRs + p（45°，532nm）> 99.9％+ Rs + p（45°，808 + 1064nm）<2％

圖3：532nm的薄膜偏振器（a）和非偏振分光鏡（b）的反射光譜，

Rs = Rp = 50±2％（| Rs-Rp | <3％）

用于p偏振光的薄膜偏振器的傳輸可以通過改進(jìn)的空腔環(huán)形降低設(shè)置以高精度測量。

圖4：二次諧波和地波（a）的三次諧波分離器和355nm和532nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（b）

對于紫外光譜范圍內(nèi)諧波的分離器的常規(guī)規(guī)格，請參見本的表格。 請立即與我們分離器或具有其他發(fā)生角度的鏡子。

圖5：1064nm的HR鏡的反射光譜，其也是532nm的輸出耦合器：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532nm）= 99％

非線性光學(xué)晶體上的涂層

非線性光學(xué)晶體是變頻的關(guān)鍵要素。 LAYERTEC在晶體上提供各種涂層，如KTP和鈮酸鋰

圖6：532nm和1064nm的KTP上雙重抗反射涂層的反射光譜

Nd：YAG和Nd：YVO4激光3倍頻成分

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的3倍頻在材料加工以及測量應(yīng)用領(lǐng)域以及作為光參量振蕩器的泵浦源方面日益重要。 在這些頁面上，我們引入了355nm的光學(xué)器件：單波長鏡和多波長鏡，分離器，薄膜偏振器和抗反射涂層。 所有設(shè)計(jì)均按客戶要求計(jì)算。

圖1：用于法向入射（a）和轉(zhuǎn)向鏡（b）的單波長鏡的反射光譜

圖2：355nm和532nm（a）的雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜

的波長轉(zhuǎn)向鏡為355nm，532nm和1064nm（b）

圖3：來自2倍頻和地面波長的3倍頻分離器的反射光譜：

（a）：標(biāo)準(zhǔn)型

（b）：對于1064nm的低反射率而特別優(yōu)化的分離器

對于紫外光譜范圍內(nèi)諧波的分離器的常規(guī)規(guī)格，請參見本的表格。

請立即與我們分離器或具有其他發(fā)生角度的鏡子。

圖4：2倍頻和地面波長3倍頻特殊分離器的反射光譜：

（a）氟分離器HR（45°，355nm）> 95％+ Rp（45°，532nm）<2％+ Rs，p（45°，1064nm）<2％

（b）HR（45°，532nm）> 99.8nm + R（45°，355nm）<5％

氟分離器在高功率密度下顯示出延長的使用壽命。

圖5：355nm薄膜偏光片的反射光譜：HR（55°，355nm）> 99％+ Rp（55°，355nm）<5％

可以通過角度調(diào)整來優(yōu)化p偏振光的透射。 將偏振器傾斜±2°將Rp的小值偏移到更長或更短的波長，這可以顯著提高偏振率。

圖6：用于355nm的單波長AR涂層的反射光譜針對AOI = 0°-30°（a）和

在355nm，532nm和1064nm的熔融二氧化硅上的三重波長抗反射涂層。

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器高次倍頻成分

Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的倍頻廣泛用于材料加工和測量應(yīng)用。 在這些頁面上，我們?yōu)榈谒模?66nm）和第五倍頻（213nm）引入雙波長鏡和隔離器。 所有設(shè)計(jì)均按客戶要求計(jì)算。

圖1：266nm和355nm（a）的雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射反射光譜和來自長波長倍頻和地面波長（b）的四次倍頻的分離器

圖2：來自長波長倍頻和地面波長（b）的五次倍頻（a）轉(zhuǎn)向鏡和五次倍頻分離器的測量反射光譜; CaF2上的氟化涂層

表1：紫外線倍頻分離器的通用規(guī)格

* CaF2上的氟涂層

圖3：來自第四倍頻的二次倍頻的分離器的反射光譜：

（a）：HR（0°，532nm）> 99.5％+ R（0°，266nm）<10％（后側(cè)未涂布）

（b）：HR（0°，532nm）> 99.9％+ R（0°，266nm）<5％（后側(cè)未涂布）

266nm的組件通常通過電子束蒸發(fā)產(chǎn)生。 這些涂層表現(xiàn)出高的損傷閾值，但可見光譜范圍內(nèi)的反射率限制在> 99.5％（見圖3a）。 近關(guān)于紫外線濺射涂層的研究結(jié)果表明，可以產(chǎn)生在VIS中具有顯著改善的反射率的分離器，其在UV中具有相似的性質(zhì)（參見圖3b）。

圖4：第四和第五倍頻分離器的反射光譜：

對于非偏振光，HRr（45°，266nm）> 98％+ Rr（45°，213nm）<10％

a）為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層（背面未涂層）

b）氟化物涂層，用于高激光誘發(fā)損傷閾值（背面未涂層）

因?yàn)檠趸X的吸收邊緣在這個(gè)波長范圍內(nèi)開始，所以在213nm處的五次倍頻是氧化物涂層的關(guān)鍵波長。 對于高功率應(yīng)用，我們建議根據(jù)ArF準(zhǔn)分子激光鏡技術(shù)生產(chǎn)的氟化鈣氟涂層。

薄膜偏光鏡

圖5：266nm（a）和213nm（b）的薄膜偏振器的反射光譜：

a）HR（56°，266nm）> 98％+ Rp（56°，266nm）<1％

b）HR（56°，213nm）> 97％+ Rp（56°，213nm）<5％;

請注意，由于上述的失血損失，Tp只有75％左右

磁控濺射使我們能夠?yàn)镹d：YAG激光器的第四和第五倍頻提供薄膜偏振器。