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高斯頂帽透鏡GTH-5-250-4
- 產(chǎn)品型號(hào)：
- 更新時(shí)間：2024-04-18
- 產(chǎn)品介紹：高斯頂帽透鏡GTH-5-250-4輸入光束直徑：TEM00直徑（1 / e2）5.0±0.15 mm; 輸出光束：250毫米工作距離的頂帽尺寸：4×4平方毫米（可用附加透鏡調(diào)節(jié)）。
- 廠商性質(zhì)：代理商
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子 |
高斯頂帽透鏡GTH-5-250-4
輸入光束直徑：TEM00直徑（1 / e2）5.0±0.15 mm; 輸出光束：250毫米工作距離的頂帽尺寸：4×4平方毫米（可用附加透鏡調(diào)節(jié)）。
高斯 - 頂帽波束成形透鏡是一種特殊形式的透鏡，用于將高斯光束的能量分配給頂帽子輪廓。
高斯頂帽透鏡GTH-5-250-4
透鏡規(guī)格：
材質(zhì)：LF5肖特玻璃;
n = 1.5659 @ 1060nm;
n = 1.5848 @ 546nm;
n = 1.6192 @ 365nm;
通光孔徑：直徑11.0毫米;
損傷閾值（未涂覆）：> 3J / cm2 @ 532nm，10ns;
安裝在1“環(huán)形支架上;
方形禮帽尺寸和相應(yīng)的工作距離可以通過在光束整形透鏡GTH-5-250-4之后放置額外的透鏡或物鏡來改變。
平方尺寸和工作距離對(duì)附加透鏡或物鏡的焦距的依賴性：
焦距，毫米 | 頂帽見方大小，毫米 | 工作距離，毫米 |
+50 | 0.67 x 0.67 | 42 |
+100 | 1.1 x 1.1 | 71 |
+200 | 1.8 x 1.8 | 111 |
+300 | 2.2 x 2.2 | 136 |
-1000 | 5.3 x 5.3 | 333 |
-500 | 8.0 x 8.0 | 500 |
GTH-5-250-4操作規(guī)范
建議的操作波長(zhǎng)范圍 | 400-1500 nm |
輸入光束TEM00，直徑（1 /e2）： | 5.0 ± 0.15 mm |
輸出光束 | hat size at 250 mm working distance: |
工作距離 | 250 mm (adjustable with additional lens) |
光束能量分配效率 | > 95% of input energy within Hat profile |
光束均勻 | ± 5 % (rel. to average intensity within hat) |
透鏡直徑 | 12.0 ± 0.1 mm |
厚度 | 4.0 ± 0.1 mm |
高斯頂帽光束成形器透鏡的光學(xué)設(shè)置
如果使用準(zhǔn)直高斯光束，則頂帽光束成形器透鏡在工作距離d = 250mm處提供尺寸為（4×4）mm2的正方形頂帽子光束輪廓。
頂帽光束成形器透鏡也適用于發(fā)散和會(huì)聚高斯光束。 重要：必須考慮光束整形器透鏡平面上的輸入光束直徑必須為5mm @ 1 / e2。
對(duì)于發(fā)散的（或收斂的）梁，頂帽的尺寸和工作距離增加（或減?。?。
用附加的球面透鏡調(diào)整方帽的尺寸
Hat配置文件的工作距離和尺寸可以通過額外的透鏡改變（相同的比例）。 對(duì)于凸透鏡而言， Hat型材的尺寸和工作距離會(huì)變小。 對(duì)于一個(gè)凹透鏡來說，大禮帽型材的尺寸和工作距離會(huì)變大。
新的工作距離和大禮帽配置文件的大小可以計(jì)算出來：
對(duì)于焦距f> 0mm（附加凸透鏡），焦距f <-250mm（附加凹透鏡）; s-=""> 0
均勻線生成頂帽光束成形透鏡和附加
柱面透鏡
通過在 Hat光束成形器透鏡后面引入附加的圓柱形透鏡（由此必須考慮柱面透鏡和工作平面之間的距離l必須大于或等于柱面透鏡的焦距），可以產(chǎn)生線輪廓 在工作的飛機(jī)。 沿著長(zhǎng)軸，強(qiáng)度分布是均勻的。 沿著由柱面透鏡聚焦的短軸，輪廓接近高斯。
用附加球面透鏡調(diào)整均勻線的長(zhǎng)度
型號(hào) | 產(chǎn)品描述 |
|---|---|
GTH-5-250-4 | uncoated lens |
GTH-5-250-4-IR | IR coated lens (700-1300 nm (R<1% per face)) |
GTH-5-250-4-VIS | VIS coated lens (400-700 nm (R<1% per face)) |
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